¹æÀü°¡°ø±â ¿ÍÀÌ¾î¹æÀü°¡°ø±â ¼¼Ç÷°¡°ø±â °í¼Ó¹Ð¸µ¸Ó½Å
³ª³ë¸Ó½Å ÀüÀÚºöPIKA ¸é °¡°ø±â ¸®´Ï¾îÁ¦Ç° ¼Ò¸ðǰ/¼¼¶ó¹Í
°¡°ø»ùÇÃ
¡¡
[total:3 / page:1/1]

: AE05

¼ÒµñÀÌ EDM¿¡ À־ ¶Ç ÇѹøÀÇ Çõ½ÅÀûÀÎ ±â¼úÀ» °³¹ßÇÏ¿© ÀÌÀüÀÇ
:

³ª³ë¿µ¿ªÀÇ ±â¼úÀ» ¹æÀü°¡°ø¿¡ Àû¿ëÇÑ ¼¼°è ÃÖ¼ÒÀÇ ¹Ì¼¼È¦ °¡°øÀÌ °¡ ´ÉÇÑ »õ·Î¿î ÄÁ¼ÁÀÇ EDMÀ¸·Î ZÃàÀÇ ¸ð¼ÇÀº ºñÁ¢ÃËÀ¸·Î °ø±âÁß¿¡¼­ Áö¿øµÇ±â ¶§¹®¿¡¡¸½ºÆäÀ̽º ½Ã¸®Á·Î ºÒ¸®¿î´Ù.

°¢ÃེƮ·ÎÅ© X¡¿Y¡¿Z (mm) 50¡¿50¡¿25
Å×À̺íÅ©±â W¡¿D (mm) 70¡¿70
°¡°øÅÊÅ©³»Å©±â 306¡¿116¡¿38
¾×¸éÁ¶Á¤¹üÀ§ 10-20
ÃÖ´ëÀü±ØÁú·® 0.5
ÃÖ´ë°¡°ø¹°Áú·® 2
±â°èÅ©±â W¡¿D¡¿H (mm) 11560¡¿1570¡¿1500

: AZ150

¼ÒÇüºÎǰ¿ë ±ÝÇüÀ» ¼­ºê¹ÌÅ©·ÐÀÇ Á¤µµ·Î °¡°øÇÏ´Â °íÁ¤µµ ▪ °íÈ¿À²ÀÇ
:

AZ150¿¡´Â °í°¡¼Óµµ ¿îÀü½Ã¿¡ »ý±â´Â Áøµ¿°ú Áß½ÉÀ§Ä¡ÀÇ º¯È­¸¦ Á¦ ¾îÇϱâ À§ÇÑ Ä«¿îÅÍ ÃàÀ» ÀåÂøÇÏ¿© È¿À²ÀûÀÎ °íÁ¤µµ °¡°øÀ» ½ÇÇöÇÑ´Ù.

°¢ÃེƮ·ÎÅ© X¡¿Y¡¿Z (mm) 150¡¿150¡¿100
±â°èº»Ã¼Å©±â W¡¿D¡¿H (mm) 1250¡¿1900¡¿1950
°¢Ãà°¡¼Óµµ (X/Y/ZÃà) 2/1.5/2 G(°¡°ø½Ã 0.5G)
ÁÖÃàȸÀü¼ö (min-1) 120,000
Àý»è/À§Ä¡°áÁ¤¼Óµµ (mm/min) 5000
ÃÖ´ë°øÀÛ¹°Áß·® (kg) 5
ATC°ø±¸¼ö³³¼ö 15º»

: Ultra NANO 100

¼­ºê ¹ÌÅ©·Ð¿¡¼­ ³ª³ëÀÇ ¼¼°è·Î
:

ÁÖ¿äÀûÀÀºÐ¾ß ¹Î»ý¿ëÀÇ ±¤ÇÐ ºÎǰ(±¤µð½ºÅ©°ü·Ã, CCD, CMOS¿ë °á»ó·»Áî, ¾×Á¤ÀÇ µµ±¤ÆÇ ±ÝÇü), Åë½Å¿ëÀÇ ±¤ÇÐ ºÎǰ(±¤Àü¼Û¿ëÀÇ °í½Å·Ú¼º ·»ÁîÀÇ ±ÝÇü µî), ±â±¸ºÎǰÀÇ ÃÊÁ¤¹Ð°¡°ø(¹ÙÀÌ¿À °ü·ÃºÎǰ µî)

°¢ÃེƮ·ÎÅ© X¡¿Y¡¿Z (mm) 100¡¿100¡¿55
AÃà/C&RÃà ½ºÆ®·ÎÅ© 180¢ª / Á¦ÇѾøÀ½
°¢Ã౸µ¿¹æ½Ä (X/Y/ZÃà) AC ¼­º¸¸ðÅÍ
°¢Ãà¼Óµµ (X/Y/ZÃà min-1) ±Þ¼Ó/Àý»èÀÌ¼Û 3000
AÃà¼Óµµ (min-1) 10
C&RÃà¼Óµµ (min-1) °¢µµºÐÇÒÃà(CÃà) 25 / ȸÀüÃà(RÃà) 1000
ÁÖÃà °ø±âÁ¤¾Ð ½ºÇɵé 50000 (¿¡¾îÅÍºó¹æ½Ä)

1